真空镀膜仪是一种广泛应用于工业和科研领域的设备，主要用于制备各种材料的薄膜。在使用真空镀膜仪时需要注意以下几点：

　　1. 操作规范

　　使用真空镀膜仪前，需要先认真阅读相关操作手册，并严格按照指示进行操作。如对设备不熟悉或存在问题，请及时与厂家联系。

　　2. 安全措施

　　真空镀膜仪属于高压、高温、低温等危险性较大的设备采取相应安全措施避免意外事故发生。例如，在打开反应室门之前，需要确保机器内部冷却；同时还需注意气体或液态化学物品的存放位置等安全问题。

　　3. 碳污染控制

　　在使用过程中要特别关注因碳源挥发而产生的碳污染现象，这会影响到预定目标沉积速率和化学组成分析结果等方面。为了解决这个问题可以选择合适材质表面处理方法并设置比较高密度电弧离子束来加速清除残留碳氢基团。

　　4. 清洁设备

　　在使用真空镀膜仪过程中，需要保持设备的清洁和整洁，尽量避免机器内部积存污物或杂质。这不仅有利于维护设备的正常运行，还可以防止对反应产物造成影响。

　　5. 充分预热

　　为了确保沉积过程能够顺利进行，在启动真空镀膜仪之前，需要行充分预热以达到所需温度条件。此外，在加样前也应该预留足够时间让加入气体等待排放后再开始实验操作。

　　6. 合适材料选择

　　根据不同应用目标和要求、基片类型及其形状等因素来确定合适的沉积原料与介质组成份比例。同时还需考虑到不同金属元素/化合物间相互作用及晶格匹配性问题来提高生长速率并控制薄膜微观结构。

　　7. 玻璃表面处理

　　如果需要在玻璃表面上制备功能性涂层时，则采取一些特殊处理方法以改善反射率和吸收效果，并增强粘附力和耐久性。通常采用离子束辅助沉积或者气力喷射等技术来优化处理效果。

　　在使用真空镀膜仪时需要关注这些方面的问题，从而确保实验结果准确可靠，同时也为设备的长期使用提供了有效保障。